在材料鍍膜、刻蝕、真空實驗等科研與工業場景，穩定潔凈的超高真空環境是實驗成功的基礎。日本 ARIOS 推出的 UHVPS 超高真空排氣裝置，依托 20 余年超高真空設備制造技術，以高真空度、易維護、高性價比的優勢，成為真空實驗的核心配套設備。

裝置從材料選擇、焊接、清洗到表面研磨處理全流程嚴控工藝，腔體采用 SUS304 不銹鋼并做鏡面電解研磨處理，漏率低至 6.7×10?11Pa?m3/sec，空載狀態下可達 1×10??Pa 以下高真空，為鍍膜、刻蝕等實驗提供無雜質污染的潔凈環境。主腔體標配樣品更換艙門，可自由組合等離子體源、加熱機構、蒸鍍源、氣體供應系統等組件，適配各類真空實驗需求。

設備采用緊湊型腔體與極簡結構設計，本體僅約 60kg，尺寸 500mm×600mm×1100mm，搭配帶腳輪與減震器的移動臺架，部署靈活；結構簡單易拆解，日常維護輕松便捷，大幅降低運維成本。以最小限度配置打造手動型設備，無需復雜自動化系統，以低成本即可引入，適配預算有限的實驗室與研發場景，同時支持根據客戶要求定制化設計制造，滿足個性化實驗場景。

裝置搭載渦輪分子泵與羅茨泵組成的排氣系統，搭配冷陰極真空計實時監測真空度；電源采用單相 200V/15A，需 0.4~0.6MPa 壓縮空氣驅動；腔體采用 SUS304 O 型圈密封，保障真空穩定性，客戶可按需選擇不同品牌泵組，靈活適配實驗需求。

該設備廣泛應用于高校科研實驗室、材料研發機構、半導體企業，可作為 MBE 裝置、分子線源等設備的配套真空系統，也可獨立用于真空鍍膜、表面刻蝕、材料真空處理等各類實驗，是真空科研領域的通用型核心設備。