工業(yè)生產(chǎn)濕度控制用分光式TDLAS露點(diǎn)水分計(jì)

工業(yè)生產(chǎn)濕度控制用分光式TDLAS露點(diǎn)水分計(jì)

高精度測(cè)量

• 測(cè)量范圍：-70至20°C露點(diǎn)溫度（標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型），能夠覆蓋從極低露點(diǎn)到相對(duì)較高的露點(diǎn)范圍。
• 系統(tǒng)精度：在20°C露點(diǎn)溫度以下時(shí)，精度為±0.2°C露點(diǎn)溫度或±2ppm，以較大者為準(zhǔn)；在20°C露點(diǎn)溫度及以上時(shí)，精度為±(0.2×DP/20)°C露點(diǎn)溫度。
• 響應(yīng)速度：90%響應(yīng)時(shí)間在-50°C露點(diǎn)溫度至0°C露點(diǎn)溫度時(shí)僅需6秒以內(nèi)，63%響應(yīng)時(shí)間在10%相對(duì)濕度至90%相對(duì)濕度（25°C）時(shí)為2秒。

高精度測(cè)量

• 測(cè)量范圍：-70至20°C露點(diǎn)溫度（標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型），能夠覆蓋從極低露點(diǎn)到相對(duì)較高的露點(diǎn)范圍。
• 系統(tǒng)精度：在20°C露點(diǎn)溫度以下時(shí)，精度為±0.2°C露點(diǎn)溫度或±2ppm，以較大者為準(zhǔn)；在20°C露點(diǎn)溫度及以上時(shí)，精度為±(0.2×DP/20)°C露點(diǎn)溫度。
• 響應(yīng)速度：90%響應(yīng)時(shí)間在-50°C露點(diǎn)溫度至0°C露點(diǎn)溫度時(shí)僅需6秒以內(nèi)，63%響應(yīng)時(shí)間在10%相對(duì)濕度至90%相對(duì)濕度（25°C）時(shí)為2秒。

高精度測(cè)量

• 測(cè)量范圍：-70至20°C露點(diǎn)溫度（標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型），能夠覆蓋從極低露點(diǎn)到相對(duì)較高的露點(diǎn)范圍

  。
• 系統(tǒng)精度：在20°C露點(diǎn)溫度以下時(shí)，精度為±0.2°C露點(diǎn)溫度或±2ppm，以較大者為準(zhǔn)；在20°C露點(diǎn)溫度及以上時(shí)，精度為±(0.2×DP/20)°C露點(diǎn)溫度

  。
• 響應(yīng)速度：90%響應(yīng)時(shí)間在-50°C露點(diǎn)溫度至0°C露點(diǎn)溫度時(shí)僅需6秒以內(nèi)，63%響應(yīng)時(shí)間在10%相對(duì)濕度至90%相對(duì)濕度（25°C）時(shí)為2秒。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

• TDLAS技術(shù)：采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)，通過(guò)測(cè)量特定波長(zhǎng)的光在氣體中傳播時(shí)被水分子吸收的程度來(lái)確定水分含量

  。
• 無(wú)過(guò)冷影響：提供準(zhǔn)確的露點(diǎn)溫度測(cè)量值，無(wú)需區(qū)分霜點(diǎn)和露點(diǎn)

  。
• 耐腐蝕性：氣體接觸部分采用高耐腐蝕性結(jié)構(gòu)，即使采樣氣體是腐蝕性氣體或混合氣體，也可以進(jìn)行露點(diǎn)測(cè)量

  。

操作與數(shù)據(jù)管理

• 一體化設(shè)計(jì)：內(nèi)置真空泵，全封裝設(shè)計(jì)，只需將管道插入儀器即可開(kāi)始測(cè)量，操作簡(jiǎn)便

  。
• 直觀操作：配備5英寸觸摸屏，用戶可以通過(guò)觸摸屏幕直觀、舒適地操作儀器。
• 數(shù)據(jù)管理：使用專(zhuān)用軟件T-1可以在PC上進(jìn)行數(shù)據(jù)記錄和監(jiān)測(cè)

  。

應(yīng)用場(chǎng)景

• 工業(yè)生產(chǎn)：用于工業(yè)爐的水分管理，確保生產(chǎn)過(guò)程中的濕度控制

  。
• 環(huán)境監(jiān)測(cè)：在干燥室或干燥箱中確認(rèn)性能，作為濕度傳感器響應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)

  。
• 實(shí)驗(yàn)室研究：為科研提供精確的露點(diǎn)測(cè)量數(shù)據(jù)，支持各種實(shí)驗(yàn)研究

  。

其他特性

• 多種輸出選項(xiàng)：提供模擬輸出（4~20mA，0~5VDC）和數(shù)字輸出（RS-232），以及報(bào)警輸出

  。
• 寬工作環(huán)境：工作環(huán)境溫度為5~40°C，相對(duì)濕度為35~85%（無(wú)冷凝）

  。
• 多種背景氣體支持：支持空氣、氮?dú)?、氧氣、氦氣、氬氣及其混合氣體

  。